４００第十一章　現代化學應用講座　水浴氮吹儀腐蝕鉻則可用酸性硫酸高鈰、堿性高錳酸鉀、堿性鐵氰化鉀或用鋅接觸硫酸 腐蝕。 　�。福�去膠 　　經選擇性腐蝕后，在被蝕刻的基片表面留下了所需刻制的圖案線條，此時作 為保護膜的抗蝕劑已完成了使命，需用適當的溶劑將其除去，或是用其它化學或 機械的方法將殘留的抗蝕劑膜除去。這一步即稱為去膠。常用的去膠方法有： ①氧化法去膠，即使用濃硫酸、濃硝酸等強氧化劑對光刻膠進行氧化，使膠膜破 壞脫落或炭化，然后除去；或高溫加熱并通氧氧化，使膠膜氧化分解為水和ＣＯ ２ 等揮發性物質而除去。②等離子體去膠，用高頻放電得到氣體等離子體，強烈 地促使抗蝕劑分解氧化成揮發性氧化物而被除去。這是目前最為先進，大有發 展前途的去膠方法。③紫外光分解去膠，光刻膠膜在空

氣或氧氣流中，用強紫 外光照射，即可分解為揮發性氣體而被除去。④去膠劑去膠，去膠劑多為有機 溶劑，可使光刻膠層溶脹或溶解而脫落。 　　經過上述八個步驟，整個光刻過程就完成了。在微電子器件和集成電路塊 的制作工藝中，根據實際需要往往需要進行多次光刻。每次光刻的對象、要求可 能不同，但光刻的原理方法和上述各步驟則基本相同的。 二、光致抗蝕劑的簡介 　　光致抗蝕劑，又稱光刻膠，是光刻工藝中必不可少的一種關鍵材料。依賴光 致抗蝕劑的選擇性保護，才能實現選擇性的蝕刻。所以現代光刻技術的發展是 以新型光致抗蝕劑的開發和發展為前提的。 　　光刻膠顧名思義是一種膠體溶液。它的主要成分就是作為光致抗蝕劑起作 用的一種感光性高分子的化合物，亦稱為感光性樹脂。再加上適當的溶劑，就可 配制膠體溶液。改變溶液中感光性樹脂的濃度，就可調節膠液的稠度和粘度，以 符合操作工藝的需要。此

外，在光刻膠中一般還加有少量的添加成分，主要是增 感劑、穩定劑等，以改善光刻膠的使用性能。 　　感光性樹脂的分子結構中含有一定比例的感光性基團，在特定波長的光照 射下，這些對光敏感的部位會發生化學反應，或產生交聯，或裂解。依照它們受 光照后所引發的光化學反應的不同類型，可將光刻膠分為正性光刻膠和負性光 刻膠兩大類�，F分別介紹如下： 　�。保�負性光致抗蝕劑 　　又稱負性光刻膠、負性膠或負膠。這是最早實現工業規模生產的，也是目前 用得最廣泛，用量最大的一類光刻膠。這類光刻膠在曝光前是以線型高分子狀 態存在的，能溶于一定的溶劑，一旦受光照射后，產生了交聯，變成不溶性的，因 而稱為光固化型的。以這種膠作為光致抗蝕劑進行光刻所得到的